- 英國(guó)研究者開發(fā)出 5D 激光刻蝕工藝，CD 大小光盤可存儲(chǔ) 500TB
- 臺(tái)積電宣布推出N4P高性能工藝
- 華潤(rùn)微：工藝平臺(tái)持續(xù)升級(jí) 國(guó)產(chǎn)功率龍頭的進(jìn)擊之路
- 聯(lián)發(fā)科新一代天璣芯即將沖擊高端市場(chǎng) 基于臺(tái)積電4nm工藝
- 28nm芯片工藝比例不足50%，中國(guó)芯要加油了
- 供應(yīng)商對(duì)臺(tái)積電今年增收 20% 表示樂觀，3nm 工藝將首先用于蘋果 iPhone 芯片
- Intel 200億美元投資2座芯片工廠：2024年首發(fā)20A埃米工藝
- 消息稱臺(tái)積電、三星3nm制程工藝在量產(chǎn)、技術(shù)上或遇到了難題
- 臺(tái)積電先進(jìn)工藝遇難題，蘋果明年 iPhone 新機(jī)恐難采用 3nm 芯片
- 微結(jié)構(gòu)不均勻性（負(fù)載效應(yīng)）及其對(duì)器件性能的影響：對(duì)先進(jìn)DRAM工藝中有源區(qū)形狀扭曲的研究
