- 光刻技術(shù)不再是一家獨(dú)大！這些光刻技術(shù)未來(lái)都有可能替代EUV
- 不再需要EUV光刻機(jī) 國(guó)內(nèi)首條光子芯片產(chǎn)線明年落地
- 俄羅斯計(jì)劃2028年造出7nm光刻機(jī)，不使用EUV技術(shù)
- ASML壓力山大：EUV光刻機(jī)，到2nm時(shí)或走到盡頭，壟斷不再
- ASML首席技術(shù)官：High-NA EUV可能成為終點(diǎn)！2025年出貨90臺(tái)EUV、600臺(tái)DUV！
- 挑戰(zhàn)ASML的EUV光刻機(jī)：美國(guó)采用電子束，俄羅斯采用X射線
- ASML CTO：EUV光刻技術(shù)，或在2025年走到盡頭，意味芯片工藝停止？
- EUV光刻機(jī)都搞不定的0.7nm芯片讓美國(guó)造出來(lái)了！是真牛還是吹牛？
- 比EUV光刻機(jī)更先進(jìn)：美企研發(fā)全新光刻機(jī)，造出0.7nm芯片
- 2nm芯片的制造，除了EUV光刻機(jī)，還需要一個(gè)微波爐？
