2 月 28 日消息,英特爾技術(shù)開(kāi)發(fā)負(fù)責(zé)人 Ann Kelleher 在周二于圣何塞舉行的 SPIE 光刻會(huì)議上提到他們已經(jīng)在 ASML 新型高數(shù)值孔徑 (High NA) EUV 光刻機(jī)上實(shí)現(xiàn)了“初次曝光”里程碑,而 ASML 也進(jìn)行了證實(shí),并表示接下來(lái)將繼續(xù)測(cè)試和調(diào)整該系統(tǒng),使其能夠發(fā)揮其全部性能。
IT之家
2024-02-29
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