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高效迷你化MOS管在快充頭的核心應用

2025-06-05 來源: 作者:廣東合科泰實業(yè)有限公司 原創(chuàng)文章
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關(guān)鍵詞: 快充技術(shù) MOS管 電能轉(zhuǎn)換 選型建議 合科泰

在快充技術(shù)飛速發(fā)展的當下,充電器的效率、體積與溫控成為關(guān)鍵挑戰(zhàn)。作為電能轉(zhuǎn)換的核心開關(guān)器件,MOS管的性能優(yōu)化對解決這些痛點至關(guān)重要。合科泰基于詳實的實測數(shù)據(jù),揭示了MOS管在快充設(shè)計中不可或缺的角色及其技術(shù)創(chuàng)新。

 

高壓開關(guān):電能轉(zhuǎn)換的能效基石

快充頭初級側(cè)的AC-DC高壓轉(zhuǎn)換環(huán)節(jié),效率損耗尤為顯著。合科泰HKTD7N65超結(jié)MOS管(650V/7A,RDS(on)=1.08Ω)在此發(fā)揮關(guān)鍵作用。其650V耐壓設(shè)計嚴格遵循“耐壓≥1.5倍輸入峰值電壓”原則(如230VAC系統(tǒng)需465V以上),有效抵御電網(wǎng)浪涌沖擊。同時,其采用的SGT溝槽工藝相較傳統(tǒng)平面MOS顯著降低30%導通損耗,助力20WPD快充方案實測效率達92%,較傳統(tǒng)肖特基方案提升7%。緊湊的TO-252封裝(技術(shù)文檔顯示TOLL封裝體積比TO-26350%)為PCB節(jié)省寶貴空間,是快充頭小型化的重要推手。

 

同步整流:低壓大電流的效能革新

次級側(cè)DC-DC轉(zhuǎn)換中,合科泰HKTG48N10同步整流MOS管(100V/48A,RDS(on)=8mΩ)以其超低導通電阻(<10mΩ)和快速體二極管(恢復時間<50ns),徹底替代傳統(tǒng)肖特基二極管。其8mΩ內(nèi)阻產(chǎn)生的損耗遠低于肖特基二極管的正向?qū)▔航担?/span>0.7V/3A時等效約233mΩ),實現(xiàn)滿載溫降17℃,無需額外散熱片。極薄的PDFN5×6封裝(厚度僅1.2mm)完美適配18mm超薄機身設(shè)計,使“口紅大小充筆記本”成為現(xiàn)實。

 

VBUS控制:安全輸出的智能衛(wèi)士

Type-C接口的VBUS通斷控制上,合科泰HKTQ65N0330V/65A,RDS(on)=3.8mΩ)解決了關(guān)鍵的安全與兼容性問題。其極低的3.8mΩ內(nèi)阻有效管控過熱風險,實測某65W方案更換高阻型號后溫降達22℃,穩(wěn)定運行于43℃安全區(qū)間。該器件支持10萬次以上插拔壽命,其產(chǎn)生的微小壓降(僅16mV@5A)確保與PD3.0/PPS等快充協(xié)議的穩(wěn)定握手,避免因電壓跌落導致的兼容性問題。優(yōu)先選用DFN3×3等小封裝(如PDFN)可節(jié)省50%空間。

 

協(xié)同氮化鎵:高頻場景下的可靠搭檔

65W氮化鎵快充高頻(>200kHz)應用中,合科泰MOS管展現(xiàn)出獨特價值。初級側(cè),HKTD4N65650V/12A)可作為GaN器件的低成本替代方案,實測效率達94.5%(僅比純GaN方案低1.5%),峰值溫度82℃(與GaN器件溫差僅4℃)。次級側(cè)因GaN缺乏反向?qū)芰?,同步整流必須依?/span>MOS管,合科泰HKTE180N10100V/180A,RDS(on)=2.3mΩ)憑借180A脈沖電流能力,可靠應對筆記本電腦快充的瞬時大電流沖擊。柵極驅(qū)動中增設(shè)的10Ω振蕩抑制電阻(文檔P28強調(diào))及2oz銅厚PCB結(jié)合散熱過孔的設(shè)計,是高頻穩(wěn)定運行的關(guān)鍵保障。

 

選型避坑

失效分析結(jié)果揭示選型必須嚴謹超結(jié)MOS抗浪涌能力弱在雷擊測試中的薄弱性需外加TVS管;VBUS開關(guān)誤用高阻型號話,會導致嚴重過熱。工程師需要遵循“耐壓≥1.5倍實際電壓、電流≥2倍設(shè)計電流(考慮脈沖沖擊)”的原則,按照功率適配封裝如果功率小于等于20W選用PDFN3×3,大于65W就選擇TO-263。

 

展望未來,合科泰TOLL封裝HKTG150N0330V/150A)將功率密度提升40%,助力30W快充體積壓縮至火柴盒大小(約25cm3);下一代SGT工藝樣品HKTX90N0330V/90A,RDS(on)=0.8mΩ)更將導通電阻降至1mΩ以下,為100W+超充鋪平道路。

 

結(jié)語

20W迷你充到65W多口快充,MOS管始終是提升效率、縮小體積、保障安全的核心引擎。合科泰通過耐壓裕量設(shè)計、SGT工藝創(chuàng)新、封裝小型化及與GaN的協(xié)同優(yōu)化,以實測數(shù)據(jù)為支撐,持續(xù)推動快充技術(shù)向“充得快、做得小、穩(wěn)得住”的極致目標邁進。

 




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