400萬(wàn)次循環(huán)后仍無(wú)衰退!中國(guó)科學(xué)家解決“鐵電疲勞”,實(shí)現(xiàn)存儲(chǔ)器無(wú)限次擦寫
關(guān)鍵詞: 存儲(chǔ)芯片
眾所周知,存儲(chǔ)芯片存在讀寫次數(shù)限制,在讀寫次數(shù)超過(guò)一定數(shù)值時(shí)穩(wěn)定性直線下降,隨時(shí)可能“掉盤”,究其原因,是由于制備存儲(chǔ)芯片的鐵電材料存在“鐵電疲勞”效應(yīng)。事實(shí)上,鐵電材料具有低功耗、無(wú)損讀取、快速重復(fù)寫入等優(yōu)異特性,是開(kāi)發(fā)非易失性存儲(chǔ)芯片的理想材料之一。此外,基于鐵電材料制備的各種芯片器件已經(jīng)應(yīng)用在強(qiáng)輻射、強(qiáng)磁場(chǎng)、高頻震動(dòng)、高溫高壓等的航空航天、深海探測(cè)等極端環(huán)境中。
近日,由中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所鐘志誠(chéng)、電子科技大學(xué)劉富才和復(fù)旦大學(xué)李文武領(lǐng)導(dǎo)的研究團(tuán)隊(duì),基于二維滑移鐵電機(jī)制開(kāi)發(fā)出一種無(wú)疲勞的新型鐵電材料,使用該材料制備的鐵電存儲(chǔ)芯片有望實(shí)現(xiàn)無(wú)限次數(shù)讀寫,同時(shí)還為解決“鐵電疲勞”帶來(lái)了新策略,在電子科技領(lǐng)域展現(xiàn)出廣泛應(yīng)用前景。
鐵電材料的固有缺陷
鐵電存儲(chǔ)器(Ferroelectric memory)是一種將DRAM的快速讀取寫入和數(shù)據(jù)保留能力,與其他穩(wěn)定存儲(chǔ)設(shè)備的特點(diǎn)相結(jié)合的隨機(jī)存取存儲(chǔ)器。它不像DRAM和SRAM那樣密集,但在低電能需求下存儲(chǔ)速度快。
盡管它可能無(wú)法取代這些技術(shù),但在小型設(shè)備中有廣泛應(yīng)用前景,如PDA、手機(jī)、功率表、智能卡和安全系統(tǒng)等。鐵電存儲(chǔ)器的發(fā)展始于1921年,1993年美國(guó)Ramtron國(guó)際公司成功推出首個(gè)4K位的FRAM產(chǎn)品。它的技術(shù)特點(diǎn)與浮動(dòng)?xùn)糯鎯?chǔ)器不同,采用人工合成的鉛鋯鈦材料,通過(guò)鐵電疇在電場(chǎng)下的反轉(zhuǎn)形成極化電荷來(lái)存儲(chǔ)數(shù)據(jù),具有非易失性、無(wú)擦寫延遲、寫入速度快、無(wú)限次寫入壽命等優(yōu)點(diǎn)。其原理是利用鐵電晶體的鐵電效應(yīng)實(shí)現(xiàn)數(shù)據(jù)存儲(chǔ),具有非易失性和抗磁場(chǎng)干擾的特點(diǎn)。
鐵電存儲(chǔ)技術(shù)早在1921年提出,直到1993年美國(guó)Ramtron國(guó)際公司成功開(kāi)發(fā)出第一個(gè)4K位的鐵電存儲(chǔ)器FRAM產(chǎn)品,所有的FRAM產(chǎn)品均由Ramtron公司制造或授權(quán)。FRAM有新的發(fā)展,采用了0.35um工藝,推出了3V產(chǎn)品,開(kāi)發(fā)出“單管單容”存儲(chǔ)單元的FRAM,最大密度可達(dá)256K位。
鐵電材料雖然名字中有“鐵”,但實(shí)際上和金屬“鐵”一點(diǎn)關(guān)系都沒(méi)有。這里的“鐵電”是指一種絕緣材料。在外加電場(chǎng)的作用下,它的電荷能夠重排產(chǎn)生電極化。即使撤掉電場(chǎng),排列后的電荷依然能保持原狀,也就是存在記憶功能。
然而,傳統(tǒng)鐵電材料會(huì)產(chǎn)生疲勞:隨著極化翻轉(zhuǎn)次數(shù)的增加,鐵電材料極化會(huì)減小,而導(dǎo)致其性能衰減,最終引發(fā)器件失效故障。在全球范圍內(nèi),鐵電材料的疲勞失效是各種電子設(shè)備出現(xiàn)故障的主要原因之一。針對(duì)上述問(wèn)題,中國(guó)科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所柔性磁電功能材料與器件團(tuán)隊(duì)聯(lián)合電子科技大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)相關(guān)團(tuán)隊(duì)從鐵電疲勞產(chǎn)生的微觀原理入手,利用二維滑移鐵電結(jié)構(gòu)的獨(dú)特性,創(chuàng)制了一種無(wú)疲勞鐵電材料。
這一應(yīng)用有望打破鐵電存儲(chǔ)器有限讀寫次數(shù)的限制,大大增加耐久性,從而能夠在深海探測(cè)、航空航天以及柔性可穿戴電子設(shè)備等方面執(zhí)行存儲(chǔ)、傳感、能量轉(zhuǎn)換等關(guān)鍵任務(wù)。
無(wú)疲勞鐵電材料問(wèn)世
傳統(tǒng)鐵電材料的內(nèi)部,有無(wú)數(shù)個(gè)晶格單元,每個(gè)晶格單元內(nèi)都聚集了帶電離子。這些帶電離子在電場(chǎng)的作用下會(huì)移動(dòng),進(jìn)而產(chǎn)生極化翻轉(zhuǎn)??蒲袌F(tuán)隊(duì)研究發(fā)現(xiàn),傳統(tǒng)鐵電材料的晶體內(nèi)部存在很多缺陷。更關(guān)鍵的是,這些缺陷在“極化翻轉(zhuǎn)”傳播過(guò)程中會(huì)發(fā)生聚集,成為缺陷團(tuán)簇,從而阻礙正常的“極化翻轉(zhuǎn)”,進(jìn)而使得材料產(chǎn)生極化疲勞,器件發(fā)生不可逆的損壞。
一個(gè)小的缺陷聚集成“缺陷團(tuán)簇”的過(guò)程,如同一顆顆小石子聚積成不可忽視的大礁石的過(guò)程??蒲袌F(tuán)隊(duì)最終采取的解決辦法不是消除這些晶體中的缺陷,而是避免這些“缺陷”移動(dòng)、聚集。但同時(shí),又不能影響“極化翻轉(zhuǎn)”的發(fā)生和傳播。他們想到了二維層狀滑移鐵電材料,用“層間滑移”來(lái)代替?zhèn)鹘y(tǒng)鐵電材料的“離子移動(dòng)”。在電場(chǎng)的作用下,層與層之間會(huì)產(chǎn)生滑移,同時(shí)層間發(fā)生電荷轉(zhuǎn)移,進(jìn)而產(chǎn)生極化翻轉(zhuǎn)。
研究團(tuán)隊(duì)首先通過(guò)理論計(jì)算,論證了由于無(wú)需克服離子間的共價(jià)鍵,所以極化翻轉(zhuǎn)所需外加電場(chǎng)較小,不足以讓缺陷移動(dòng),而且由于二維層狀的結(jié)構(gòu),使得缺陷難以跨越層間移動(dòng),所以缺陷更加不會(huì)聚集,也不會(huì)產(chǎn)生鐵電疲勞。而在常規(guī)離子型鐵電材料中,在電場(chǎng)作用下,鐵電材料中的每個(gè)晶格單元的極化翻轉(zhuǎn)不是同時(shí)發(fā)生的,而是如同海浪一般從材料的一端傳播到另一端。傳播過(guò)程中,材料中缺陷會(huì)移動(dòng)并聚集。
新材料抗疲勞的原理是:層與層之間存在范德華間隙,如一堵墻把缺陷隔離開(kāi),使其無(wú)法移動(dòng);層內(nèi)部,由于沒(méi)有橫向電場(chǎng),缺陷同樣無(wú)法移動(dòng)。研究團(tuán)隊(duì)以雙層二硫化鉬為代表性材料,通過(guò)化學(xué)氣相輸送(CVT)法制備了雙層二硫化鉬鐵電器件,其厚度僅為納米級(jí)別。研究發(fā)現(xiàn),其抗疲勞性能明顯優(yōu)于傳統(tǒng)離子型鐵電材料。
400萬(wàn)次循環(huán)后仍無(wú)衰退
試驗(yàn)表明,這種鐵電芯片器件在經(jīng)歷了 400 萬(wàn)次循環(huán)電場(chǎng)翻轉(zhuǎn)極化后,電學(xué)曲線測(cè)量顯示鐵電極化仍然沒(méi)有出現(xiàn)衰減,證明其抗疲勞能力要優(yōu)于傳統(tǒng)鐵電材料,此外,在不同的脈沖寬度下其內(nèi)存性能在低循環(huán)時(shí)沒(méi)有表現(xiàn)出“喚醒效應(yīng)”。
這意味著,使用新型二維層狀滑移鐵電材料的存儲(chǔ)器,不僅基本沒(méi)有讀寫次數(shù)限制,超薄的厚度還可以大大提升其存儲(chǔ)密度。因此,對(duì)于深海探測(cè)或航空航天重大裝備領(lǐng)域而言,無(wú)疲勞的新型二維層狀滑移鐵電材料可極大提升設(shè)備可靠性,降低維護(hù)成本。
研究人員表示,基于這種二維層狀滑移鐵電材料制備的存儲(chǔ)芯片,理論上可以實(shí)現(xiàn)無(wú)限次數(shù)的擦寫,由于沒(méi)有讀寫次數(shù)限制,能夠大幅提升芯片器件的可靠性、耐久性,同時(shí)有效降低成本。除此之外,基于該新型材料制備的存儲(chǔ)芯片的厚度僅為納米級(jí)別,可以大幅提升存儲(chǔ)密度,兼具無(wú)限次讀寫、大容量、穩(wěn)定等特性,未來(lái)將應(yīng)用于重大技術(shù)裝備領(lǐng)域。
在評(píng)審意見(jiàn)中,一位審稿專家表示,“通過(guò)滑移鐵電機(jī)制來(lái)解決鐵電疲勞問(wèn)題非常巧妙”。另一位審稿專家表示,“作者們展示了一種解決眾所周知的傳統(tǒng)鐵電材料性能下降的方法。顯然,滑移鐵電中極化翻轉(zhuǎn)的勢(shì)壘遠(yuǎn)小于缺陷遷移勢(shì)壘,這一點(diǎn)被很成功地揭示了出來(lái)”。
