次世代HBM商戰(zhàn)開打 SK集團(tuán)專機(jī)旋風(fēng)來臺(tái)、強(qiáng)化臺(tái)積電HBM4合作先機(jī)
下世代HBM4(第六代HBM)爭(zhēng)霸戰(zhàn)提前展開,臺(tái)積電新任董事長(zhǎng)魏哲家正式接任后,SK集團(tuán)會(huì)長(zhǎng)崔泰源和SK海力士社長(zhǎng)郭魯正6日搭乘專機(jī)閃電旋風(fēng)來臺(tái),藉此強(qiáng)化AI半導(dǎo)體的競(jìng)爭(zhēng)力,搶佔(zhàn)HBM4開發(fā)先機(jī),依照規(guī)劃,SK海力士預(yù)計(jì)將在2025年量產(chǎn)HBM4。
三大記憶體廠將開發(fā)重點(diǎn)聚焦于HBM市場(chǎng)大餅,根據(jù)NVIDIA規(guī)劃,次世代Rubin GPU將採用8層堆疊HBM4,而Rubin Ultra GPU則會(huì)採12層堆疊HBM4,執(zhí)行長(zhǎng)黃仁勳日前也指出,Rubin R100 GPU預(yù)計(jì)2025年第4季量產(chǎn),相關(guān)DGX和HGX超級(jí)運(yùn)算解決方案預(yù)計(jì)2026年上半量產(chǎn),Rubin GPU及相關(guān)平臺(tái)將于2026年推出。
SK集團(tuán)會(huì)長(zhǎng)崔泰源專機(jī)閃電來臺(tái),與臺(tái)積電新任董事長(zhǎng)魏哲家會(huì)面,確立雙方強(qiáng)化AI及半導(dǎo)體合作。SK集團(tuán)
為了持續(xù)確保HBM領(lǐng)先地位,SK海力士已提前展開布局,預(yù)計(jì)2025年將導(dǎo)入量產(chǎn)HBM4,崔泰源亦在4月底前往美國(guó)硅谷,專程會(huì)見黃仁勳,更透過個(gè)人社群平臺(tái),上傳兩人的合影。
據(jù)指出,魏哲家正式接手兼任董事長(zhǎng)暨總裁,臺(tái)積電開啟魏哲家全面執(zhí)政時(shí)代,崔泰源和郭魯正立即敲定專程前往臺(tái)積電,以強(qiáng)化雙方HBM4開發(fā)制程順利,并討論在AI及半導(dǎo)體領(lǐng)域的合作方案等,崔泰源與魏哲家也留下兩人合影,SK集團(tuán)高層來臺(tái)僅短短數(shù)小時(shí)便閃電離開臺(tái)灣,可見對(duì)于HBM4技術(shù)開發(fā)的高度重視。
此外,SK海力士2024年首度參展COMPUTEX,并在攤位展出最新HBM3E記憶體以及MR-MUF技術(shù)(Mass Re-flow Molded Underfill),據(jù)悉,SK海力士社長(zhǎng)層級(jí)高層先后到達(dá)臺(tái)灣,并前往COMPUTEX現(xiàn)場(chǎng)參觀,掌握全球技術(shù)發(fā)展動(dòng)向。
SK海力士于4月宣布與臺(tái)積電簽訂技術(shù)合作合作備忘錄,為了提高效能,從HBM4開始,SK海力士將採用臺(tái)積電的先進(jìn)制程工藝用于生產(chǎn)Base Die,透過在Base Die採用超細(xì)微工藝,將可以增加更多功能,并在效能和功效等方面,更能滿足客戶定制化(Customized)HBM產(chǎn)品的需求。
同時(shí),2家公司也決定將優(yōu)化SK海力士的HBM和臺(tái)積電的CoWoS技術(shù)結(jié)合,以共同應(yīng)對(duì)HBM相關(guān)顧客的要求。
SK海力士以往生產(chǎn)HBM產(chǎn)品,包括HBM3E採由自身制程技術(shù)來制造Base Die,但從HBM4開始將打破邏輯制程與記憶體的界線,開始採用先進(jìn)邏輯制程,換言之,未來在Base Die完成后,將交由SK海力士等記憶體制造DRAM堆疊制程,最后再交回臺(tái)積電進(jìn)行CoWoS先進(jìn)封裝技術(shù)。
SK集團(tuán)表示,為了促進(jìn)AI及半導(dǎo)體領(lǐng)域的全球合作,崔泰源從2023年底開始推動(dòng)廣泛合作,并傳達(dá)了“一起開啟有助于人類的AI時(shí)代基石”的資訊,并確保加強(qiáng)SK海力士和TSMC再HBM領(lǐng)域合作能達(dá)成共識(shí)。
