碳化硅應(yīng)用市場擴(kuò)大,國內(nèi)企業(yè)布局加快腳步
近兩年,SiC市場愈發(fā)受到市場重視,包括汽車、太陽能、儲能等應(yīng)用領(lǐng)域紛紛加大碳化硅應(yīng)用。
鑒于SiC材料的優(yōu)越特性,行業(yè)客戶對SiC發(fā)展前景充滿信心,全球主要的SiC廠商如英飛凌、ST和安森美等都在大舉擴(kuò)產(chǎn)建能,國內(nèi)碳化硅項(xiàng)目也如火如荼開展。僅從2023年12月初到2024年1月中旬的一個(gè)多月時(shí)間,就有十多個(gè)SiC相關(guān)項(xiàng)目迎來新進(jìn)展。近期又有三個(gè)碳化硅相關(guān)項(xiàng)目迎來新動(dòng)態(tài)。
2月1日,嘉興國家高新區(qū)SiC半橋模塊制造項(xiàng)目簽約儀式舉行。該項(xiàng)目由浙江晶能微電子有限公司與星驅(qū)技術(shù)團(tuán)隊(duì)共同出資設(shè)立,重點(diǎn)布局車規(guī)SiC半橋模塊。項(xiàng)目總投資約10億元,規(guī)劃建設(shè)年產(chǎn)90萬套SiC半橋模塊制造生產(chǎn)線及相關(guān)配套。
近期,浙江嘉興平湖市政府公示了“年產(chǎn)90萬片功率模塊、45萬片PCBA板和20萬臺電機(jī)控制器”建設(shè)項(xiàng)目規(guī)劃批前公告。
據(jù)披露,該項(xiàng)目建設(shè)單位為臻驅(qū)科技全資子公司——臻驅(qū)半導(dǎo)體(嘉興)有限公司(以下簡稱臻驅(qū)半導(dǎo)體),臻驅(qū)半導(dǎo)體擬投約資6.45億元建造廠房用于生產(chǎn)及研發(fā)等,項(xiàng)目建筑面積4.58萬平米。
近日,位于廈門火炬高新區(qū)的三優(yōu)光電產(chǎn)業(yè)園項(xiàng)目取得竣工驗(yàn)收備案證明書。
據(jù)了解,三優(yōu)光電產(chǎn)業(yè)園項(xiàng)目總投資約2.5億元,總建筑面積約4.74萬平米,項(xiàng)目除整合公司現(xiàn)有產(chǎn)線之外,還將新建5G承載網(wǎng)設(shè)備光電器件、1200V以上SiC系列產(chǎn)品、傳感激光光源、MEMS芯片封測等產(chǎn)線的設(shè)計(jì)研發(fā)中心,以及相關(guān)配套基礎(chǔ)設(shè)施。
碳化硅熱度不減
有專家預(yù)測:以SiC材料為代表的第3代半導(dǎo)體材料及器件產(chǎn)業(yè),將是繼風(fēng)能、太陽能之后又一新興的大產(chǎn)業(yè)。
SiC半導(dǎo)體潛在應(yīng)用領(lǐng)域較為廣泛,對新能源汽車、軌道交通、智能電網(wǎng)等領(lǐng)域都具有潛在的應(yīng)用前景。隨著下游行業(yè)對半導(dǎo)體功率器件輕量化、高轉(zhuǎn)換效率、低發(fā)熱特性需求的持續(xù)增加,SiC在功率器件中取代Si成為行業(yè)發(fā)展的必然。
新能源產(chǎn)業(yè),特別是新能源汽車的蓬勃發(fā)展,帶動(dòng)碳化硅市場走熱。除此以外,參與到能源的生產(chǎn)與分配,包括EV、儲能、UPS、充電樁等領(lǐng)域的碳化硅市場開始供不應(yīng)求。”集邦咨詢分析師龔瑞驕分析道。
在整個(gè)碳化硅的投資中,8英寸是當(dāng)前重點(diǎn)布局的方向,碳化硅推廣的重點(diǎn)在于降本,而8英寸的產(chǎn)品則可以有效實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。
“8英寸碳化硅,被認(rèn)為是碳化硅的黃金賽道,相較6英寸有很多的優(yōu)勢,特別是成本方面?!睜q科晶體總經(jīng)理助理馬康夫表示,8英寸的邊緣損耗更小,尺寸越大晶片的利用面積更大。據(jù)wolfspeed統(tǒng)計(jì),未來通過產(chǎn)量的提升,規(guī)模效益的提升,以及自動(dòng)化效益的提升,8英寸相對6英寸成本會降低63%。
還有廠商表示,目前硅基器件廠的8寸產(chǎn)品比較成熟,因此他們更愿意接受8英寸碳化硅襯底。
國產(chǎn)企業(yè)突破單晶制備難題
在新能源汽車、工業(yè)互聯(lián)、5G通信、消費(fèi)電子等多重需求強(qiáng)力拉動(dòng)下,以碳化硅為代表的第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展。中國電科高度重視第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)布局,集聚全國50多家產(chǎn)學(xué)研用優(yōu)勢單位,牽頭組建國家第三代半導(dǎo)體技術(shù)創(chuàng)新中心,完成從材料、裝備、工藝到器件、模塊、應(yīng)用的體系化布局,推動(dòng)第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力整體躍升。
隆冬時(shí)節(jié),中國電科(山西)碳化硅材料產(chǎn)業(yè)基地生產(chǎn)車間緊張忙碌,一排排3米高碳化硅單晶生長設(shè)備表面平靜,里面2000℃以上的高溫中,正進(jìn)行著驚人的化學(xué)反應(yīng)——一個(gè)個(gè)碳化硅晶錠正在快速生長。
“碳化硅單晶制備是全球性難題,而高穩(wěn)定的晶體生長則是其中最核心的一環(huán)?!奔夹g(shù)專家表示,深耕碳化硅材料和大尺寸單晶研發(fā)“賽道”,團(tuán)隊(duì)自研碳化硅單晶生長爐,完成高純碳化硅粉料制備,突破4英寸、6英寸碳化硅襯底產(chǎn)業(yè)化關(guān)鍵技術(shù),攻克N型碳化硅單晶襯底、高純半絕緣碳化硅單晶襯底制備難題,解決“切、磨、拋”等工藝難點(diǎn),實(shí)現(xiàn)碳化硅粉料制備、單晶生長、晶片加工等全流程自主創(chuàng)新。2023年,團(tuán)隊(duì)成功實(shí)現(xiàn)8英寸碳化硅單晶及襯底小批量出貨,6英寸中高壓碳化硅外延片月產(chǎn)能力大幅提升。
“相較于6英寸外延設(shè)備,自主研發(fā)的8英寸碳化硅外延設(shè)備生產(chǎn)出的外延片邊緣損耗更小、可利用面積更大。”技術(shù)專家表示,自主研制三代半導(dǎo)體專用核心裝備挺進(jìn)“8英寸時(shí)代”一直是產(chǎn)業(yè)焦點(diǎn)??蒲袌F(tuán)隊(duì)接力攀登,努力攻克關(guān)鍵核心技術(shù),推動(dòng)8英寸碳化硅單晶生長設(shè)備、外延設(shè)備、晶圓檢測設(shè)備、離子注入設(shè)備、減薄設(shè)備實(shí)現(xiàn)整線集成,讓單片晶圓芯片產(chǎn)出提高90%,單位芯片成本可降低近50%。
不斷刷新材料、裝備研制高度,持續(xù)拓寬器件應(yīng)用廣度。
“這是一個(gè)1200伏、100安的碳化硅半導(dǎo)體器件,電能的處理和控制,靠的就是這個(gè)?!毙⌒囊硪碛谜婵瘴P拾取碳化硅器件,技術(shù)專家笑著說,隨著國產(chǎn)新能源汽車生產(chǎn)量迅猛攀升,碳化硅材料研制的器件、模塊,快速走向應(yīng)用舞臺“C位”。相同規(guī)格下碳化硅MOSFET的尺寸只有硅基產(chǎn)品的1/10,但導(dǎo)通電阻是后者的百分之一,總能量損耗可以降低70%。
雖然碳化硅器件、模塊前景亮麗,但是撬動(dòng)市場的,永遠(yuǎn)是創(chuàng)新的系統(tǒng)設(shè)計(jì)及規(guī)?;瘧?yīng)用水平?!把邪l(fā)過程中,尤其在核心指標(biāo)遇到較大困難時(shí),我們從不放棄,堅(jiān)信熬過最難關(guān)口,一定能成功!”沿著行業(yè)脈動(dòng)不懈攀登,技術(shù)人員加快布局推進(jìn)8英寸第三代半導(dǎo)體器件中試平臺建設(shè),打造穩(wěn)定開放的研發(fā)創(chuàng)新平臺及產(chǎn)業(yè)共性技術(shù)平臺,致力于為行業(yè)提供更多源頭技術(shù)供給,推動(dòng)產(chǎn)業(yè)鏈向高端躍升。
國產(chǎn)替代還需持續(xù)發(fā)力
襯底:國外龍頭壟斷,國內(nèi)奮起直追
大尺寸襯底能有效攤薄成本,是行業(yè)發(fā)展主流。目前碳化硅襯底主流尺寸是4/6寸,其中半絕緣型碳化硅襯底以4寸為主,導(dǎo)電型碳化硅襯底以6寸為主。據(jù)業(yè)界消息顯示,當(dāng)襯底從6寸擴(kuò)大到8寸時(shí),可切割出的碳化硅芯片(32mm2)數(shù)量有望從448顆增加到845顆,增加了75%。當(dāng)下國際上龍頭企業(yè)的碳化硅襯底正從6寸往8寸發(fā)展,包括Wolfspeed、II-VI以及國內(nèi)碳化硅襯底龍頭企業(yè)天岳先進(jìn)等都已成功研發(fā)8英寸襯底產(chǎn)品。
從海內(nèi)外市占率看,Wolfspeed和II-VI公司在研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化方面領(lǐng)先國內(nèi)數(shù)十年,其中Wolfspeed/II-VI的6寸半絕緣型碳化硅襯底量產(chǎn)時(shí)間遠(yuǎn)遠(yuǎn)早于天岳先進(jìn)。目前我國企業(yè)龍頭天科合達(dá)、天岳先進(jìn)還在奮起直追。據(jù)天岳先進(jìn)等龍頭企業(yè)財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)顯示,在絕緣型襯底方面,天岳先進(jìn)全球市占率約為30%。
外延:國外企業(yè)主導(dǎo)型強(qiáng),國內(nèi)未來規(guī)模產(chǎn)能穩(wěn)定
在外延片上,Wolfspeed與昭和電工占據(jù)了全球超90%的碳化硅導(dǎo)電型外延片市場份額,形成雙寡頭壟斷。目前我國由于進(jìn)口外延爐供貨短缺,國內(nèi)外延爐仍需驗(yàn)證并且外延工藝難度大,國內(nèi)SiC外延廠商較少,市占率較低。
就國內(nèi)企業(yè)看,瀚天天成和東莞天域技術(shù)及產(chǎn)能較為穩(wěn)定。技術(shù)上,兩者在6英寸外延均較為成熟和穩(wěn)定,在8英寸均有儲備。產(chǎn)能方面,瀚天天成2022年6英寸產(chǎn)能達(dá)12萬片,2023年計(jì)劃產(chǎn)能40萬片(包括6/8英寸),至2025年產(chǎn)能目標(biāo)約140萬片;東莞天域2022年6英寸產(chǎn)能達(dá)8萬片,并且啟動(dòng)年產(chǎn)100萬片的6/8英寸外延項(xiàng)目,預(yù)計(jì)2025年竣工并投產(chǎn)。
外延設(shè)備國產(chǎn)化是國內(nèi)發(fā)展的重中之重,目前國內(nèi)廠商晶盛機(jī)電、北方華創(chuàng)、中電48所等正在加強(qiáng)研究,其中晶盛機(jī)電6寸單片式碳化硅外延設(shè)備已實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代,2022年公司外延設(shè)備市占率居國內(nèi)前列。2023年6月晶盛機(jī)電又成功研發(fā)8英寸單片式碳化硅外延生長設(shè)備,引領(lǐng)國產(chǎn)替代。
器件制造:設(shè)計(jì)、制造、封測缺一不可,道阻且長
在碳化硅器件制造設(shè)計(jì)端上,SiC二極管商業(yè)化正在逐步完善,但SiC MOS發(fā)展較面臨較多難點(diǎn),與國外廠商差距較大。目前ST、英飛凌、Rohm等廠商已實(shí)現(xiàn)600-1700V SiC MOS實(shí)量產(chǎn)并和多制造業(yè)達(dá)成簽單出貨;國內(nèi)則還處于設(shè)計(jì)流片階段,距離大規(guī)模商業(yè)化仍有較長時(shí)間。
碳化硅器件制造則與設(shè)備國產(chǎn)化進(jìn)程息息相關(guān),設(shè)備需求主要包括高溫離子注入機(jī)、高溫退火爐、SiC減薄設(shè)備、背面金屬沉積設(shè)備、背面激光退火設(shè)備、SiC襯底和外延片表面缺陷檢測和計(jì)量。近幾年是國產(chǎn)設(shè)備廠商的黃金發(fā)展3年,我國上述設(shè)備在近幾年得到較快發(fā)展。
在碳化硅器件封測領(lǐng)域,氮化硅主要采用AMB工藝,更受行業(yè)歡迎。據(jù)悉,AMB工藝生產(chǎn)的陶瓷襯板主要運(yùn)用在功率半導(dǎo)體模塊上作為硅基、碳化基功率芯片的基底。由于氮化硅陶瓷基板的多種特性與第3代半導(dǎo)體襯底SiC晶體接近,使其能夠與SiC晶體材料匹配更穩(wěn)定,因此成為SiC半導(dǎo)體導(dǎo)熱基板材料首選,特別在800V以上高端新能源汽車中應(yīng)用中不可或缺。
另外,目前以硅基材料為主的IGBT模塊在具有高導(dǎo)熱性、高可靠性、高功率等要求的軌道交通、工業(yè)級、車規(guī)級領(lǐng)域正逐漸采用AMB陶瓷襯板替代原有的DBC陶瓷襯板。中國AMB陶瓷基板更多是依賴進(jìn)口,國內(nèi)廠商包括博敏電子、富樂華正在加速擴(kuò)產(chǎn)。
