從技術(shù)到設(shè)備再到客戶,這場(chǎng)2nm制程大戰(zhàn)非巨頭沒資格上“戰(zhàn)場(chǎng)”
關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體 臺(tái)積電 芯片
據(jù)媒體報(bào)道,三星計(jì)劃明年在韓國(guó)開始2nm工藝的制造,并且在2047年之前,三星將在韓國(guó)投資500萬(wàn)億韓元,建立一個(gè)巨型半導(dǎo)體工廠,將進(jìn)行2nm制造。
據(jù)悉,2nm工藝被視為下一代半導(dǎo)體制程的關(guān)鍵性突破,它能夠?yàn)樾酒峁└叩男阅芎透偷墓摹?br style="white-space: normal; color: rgb(102, 102, 102); font-family: 宋體; font-size: 12px;"/>
作為三星最大的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手,臺(tái)積電在去年研討會(huì)上就披露了2nm芯片的早期細(xì)節(jié),臺(tái)積電的2nm芯片將采用N2平臺(tái),引入GAAFET納米片晶體管架構(gòu)和背部供電技術(shù)。臺(tái)積電推出的采用納米片晶體管架構(gòu)的2nm制程技術(shù),在相同功耗下較3nm工藝速度快10%至15%,在相同速度下功耗降低25%至30%。
業(yè)內(nèi)人士指出,三星、臺(tái)積電均具備2025年量產(chǎn)2nm工藝的實(shí)力,但是在良率以及客戶認(rèn)可度方面會(huì)有所差別。
舉例來(lái)說(shuō),此前高通驍龍8 Gen1采用的是三星4nm工藝,因功耗問(wèn)題高通換成了臺(tái)積電4nm,從驍龍8+ Gen1開始,高通驍龍8系全面擁抱臺(tái)積電。如果三星芯片良率提升,功耗不翻車的話,高通未來(lái)的驍龍8系列處理器有可能再次交由三星代工。
先進(jìn)制程工藝演進(jìn),逼近物理極限
制程,是指特定的半導(dǎo)體制造工藝及其設(shè)計(jì)規(guī)則。芯片工藝中的nm單位,用于衡量芯片制造工藝中的線寬尺寸,不同的制程意味著不同的電路特性,芯片工藝的數(shù)字越小,表示線寬尺寸越小,芯片制造工藝越先進(jìn)。
制程越小,器件尺寸才能更小,半導(dǎo)體集成度才能更高,也是區(qū)分不同半導(dǎo)體制造工藝換代的標(biāo)志。一般來(lái)說(shuō),制程節(jié)點(diǎn)越小意味著晶體管越小速度越快、能耗表現(xiàn)越好。
從英特爾的第一顆CPU開始,芯片制程由10000nm開始以飛快的發(fā)展速度向更小的制程節(jié)點(diǎn)逼近,1977年芯片制程發(fā)展到3000nm,1987年發(fā)展到800nm。從1990年制程演進(jìn)到600nm開始,先進(jìn)制程的發(fā)展再一步提速,基本上每幾年就會(huì)躍升到下一個(gè)更先進(jìn)的制程節(jié)點(diǎn)。
2020年,5nm制程芯片(蘋果A14)首次成功應(yīng)用。而現(xiàn)在,隨著半導(dǎo)體技術(shù)的飛速發(fā)展,先進(jìn)制程的角逐已經(jīng)圍繞著5nm以下的工藝展開。
隨著制程節(jié)點(diǎn)由5nm向3nm、2nm發(fā)展和演進(jìn),芯片制造的難度逐步逼近摩爾定律的物理極限,從制程進(jìn)步中獲得芯片性能提升的難度和成本越來(lái)越高。如今3nm戰(zhàn)場(chǎng)方興未艾,2nm的競(jìng)爭(zhēng)已經(jīng)全面打響。
2nm芯片到底能帶來(lái)怎樣的提升呢?根據(jù)2021年IBM在實(shí)驗(yàn)階段制成的2nm芯片,其大小只有150mm2,而這顆芯片內(nèi)部每平方毫米有著3.3億個(gè)晶體管,整塊芯片中可以安裝500億個(gè)晶體管。根據(jù)IBM的評(píng)估,2nm技術(shù)相較于7nm技術(shù),性能方面將得到45%的提升,在同等性能下功耗能夠減少75%。
先進(jìn)制程給芯片帶來(lái)的性能提升是很明顯的,2nm芯片成功量產(chǎn)后無(wú)疑將再一次引發(fā)芯片行業(yè)的更新?lián)Q代。不論是智能手機(jī)、電腦、可穿戴設(shè)備、還是自動(dòng)駕駛、數(shù)據(jù)中心等等應(yīng)用,這些領(lǐng)域一旦使用上2nm工藝的芯片,那么在性能方面將實(shí)現(xiàn)飛躍式發(fā)展,且能耗明顯下降。
從更長(zhǎng)遠(yuǎn)的角度看,2nm后還有更極限的先進(jìn)制程,1nm制程、0.2nm制程將進(jìn)一步逼近物理極限。
三大巨頭你爭(zhēng)我奪
三大芯片巨頭臺(tái)積電、三星和英特爾紛紛展開爭(zhēng)奪2nm制程的戰(zhàn)斗。而在這場(chǎng)少數(shù)者的游戲中,搶光刻機(jī)截客戶是三家公司紛紛施展的手段,而2nm的技術(shù)挑戰(zhàn)和各類技術(shù)革新更是成為這場(chǎng)戰(zhàn)斗中的核心要素。
2nm制程的意義遠(yuǎn)超行業(yè)預(yù)期,目前該制程主要應(yīng)用在數(shù)據(jù)中心,能大幅度提升服務(wù)器性能的同時(shí)降低功耗。特別是在人工智能大模型的崛起下,巨大參數(shù)底座的AI落地到千行百業(yè)需求增大,更強(qiáng)大的算力支撐就顯得尤為重要。因此英偉達(dá)成為2nm及其以下制程的早期采用者之一,并在光刻領(lǐng)域斬獲重要突破。
然而在這場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中光刻機(jī)成為了首要熱點(diǎn),光刻機(jī)作為芯片制程向上攀升的關(guān)鍵工具,扮演著重要角色。目前ASML的光刻機(jī)仍然是最為先進(jìn)的,然而其數(shù)量有限。三星為了搶購(gòu)光刻機(jī),甚至邀請(qǐng)韓國(guó)總統(tǒng)尹錫悅出面于指定城市投資建廠。而佳能則嘗試采用納米壓印技術(shù)進(jìn)行2nm芯片的制程生產(chǎn),此技術(shù)具有更小、更低功耗、更便宜等優(yōu)勢(shì)。
除了光刻機(jī)之爭(zhēng),各家芯片廠商也需要應(yīng)對(duì)各類技術(shù)革新和挑戰(zhàn)。在2nm制程中GAA技術(shù)(Gate AllAround,全環(huán)柵型晶體管技術(shù))成為了核心科技之一,它能夠解決電子逸散的問(wèn)題,同時(shí)背面配電線路技術(shù)也被廣泛采用,以提供足夠的電能并減少漏電損耗。
然而2nm制程的競(jìng)爭(zhēng)并不僅于芯片廠商之間的較量,許多全新力量也試圖進(jìn)入戰(zhàn)局。日本成立了半導(dǎo)體公司Rapidus,邀請(qǐng)IBM合作研發(fā)2nm和1nm工藝。歐洲也加強(qiáng)了合作,邀請(qǐng)英特爾在歐洲建設(shè)800億的先進(jìn)制程工廠。這個(gè)少數(shù)者的游戲?qū)⒖简?yàn)廠商的資金實(shí)力、人力技術(shù)整合能力和供應(yīng)鏈優(yōu)勢(shì)。
少數(shù)者的游戲
2nm未來(lái)主要應(yīng)用在數(shù)據(jù)中心,作用在于,能夠讓服務(wù)器性能大幅度提升的同時(shí),降低功耗,“既要又要”不再是可能。
尤其是,今年以來(lái)大模型初步讓行業(yè)窺探到智能涌現(xiàn)的魅力,未來(lái)要讓巨大參數(shù)底座的AI大模型落地到千行百業(yè),行業(yè)還需要有更強(qiáng)有力的算力來(lái)支撐——這也解釋了,為什么英偉達(dá)如今幾乎是2nm及其以下先進(jìn)制程的最狂熱簇?fù)碚咧弧?/span>
而英偉達(dá)不僅是簡(jiǎn)單的“用”芯片,成為臺(tái)積電2nm工藝的首批吃螃蟹的人,還在入局光刻領(lǐng)域。此前有消息稱,英偉達(dá)與臺(tái)積電、ASML、新思科技秘密準(zhǔn)備了4年,推出了用于計(jì)算光刻的軟件庫(kù)“cuLitho”,將計(jì)算光刻速率加速了40倍以上。
不僅僅是想象空間巨大的HPC,2nm芯片在手機(jī)、自動(dòng)駕駛、汽車等領(lǐng)域也有非常廣泛的應(yīng)用。以為手機(jī)為例,相比于7nm芯片,2nm芯片的速度提高了45%,能效更是提高了75%。三星曾經(jīng)提過(guò)一個(gè)激進(jìn)的設(shè)想,未來(lái)的手機(jī)將可能是“充一次電用一周”的時(shí)代。
只是如今,先進(jìn)制程的競(jìng)爭(zhēng),早已經(jīng)不是一場(chǎng)技術(shù)戰(zhàn)那么簡(jiǎn)單了。最近十年“摩爾定律”的攀登已經(jīng)提示:一場(chǎng)殘酷的芯片淘汰賽拉開了帷幕。
14nm算是第一個(gè)檻,叱咤風(fēng)云的聯(lián)合電子便就止步于此,不再往先進(jìn)制程進(jìn)發(fā);
隨后的10nm、7nm分別是下一個(gè)分水嶺,美系芯片廠商紛紛在此滑鐵盧——代工大廠格芯就此止步,英特爾也差點(diǎn)迷失,而后又奮起直追;
到了5nm以下的時(shí)代,牌桌上,僅剩下三星、臺(tái)積電、英特爾還有資格比拼,這又分別代表著三股大勢(shì)力的決斗。
一些全新力量試圖卷土重來(lái)。
在半導(dǎo)體行業(yè)掉隊(duì)許久的日本,為了找回曾經(jīng)的輝煌,此前集合了索尼、豐田等8 家日本科技公司,成立了半導(dǎo)體公司Rapidus。這家公司計(jì)劃在2025年推出2nm工藝、2029 年推出1nm工藝。
不過(guò),零基礎(chǔ)幾乎不可能完成這項(xiàng)任務(wù),他們還找來(lái)了IBM做背書,借助IBM此前在2nm的技術(shù)沉淀來(lái)研發(fā)。
歐洲這邊,由于過(guò)去那么多年在芯片制造上躺平,已經(jīng)沒有了參與競(jìng)爭(zhēng)的先頭部隊(duì),但勝在有錢。此前19個(gè)歐盟成員國(guó)共同聲明,要以加強(qiáng)歐洲開發(fā)下一代處理器和半導(dǎo)體的能力進(jìn)行合作,全面沖刺2nm。歐洲方面此前還邀請(qǐng)了英特爾,在歐洲建了一個(gè)800億的先進(jìn)制程工廠,曲線加入戰(zhàn)爭(zhēng)。
2nm以下芯片制程的競(jìng)爭(zhēng),考驗(yàn)著廠商的資金實(shí)力、人力、技術(shù)整合能力、供應(yīng)鏈優(yōu)勢(shì)等等。
這是一場(chǎng)少數(shù)者的游戲。
