2023年，是ASML狂歡的一年，這一年賣出了276億歐元的光刻機(jī)，同比增長(zhǎng)30%，而凈利潤(rùn)為78億歐元，同比增長(zhǎng)43%，毛利率高達(dá)51.3%。

2023年這一年，ASML賣出了53臺(tái)EUV光刻機(jī)，125臺(tái)浸潤(rùn)式DUV光刻機(jī)，32臺(tái)普通干式DUV光刻機(jī)，184臺(tái)KrF光刻機(jī)，55臺(tái)L-line光刻機(jī)，所有類型的光刻機(jī)，都比2022年銷量多。

而對(duì)于2024年，ASML不樂(lè)觀表示預(yù)計(jì)和2023年差不多。

事實(shí)上，2024年，理應(yīng)是ASML大量發(fā)展的一年，為何預(yù)計(jì)卻不會(huì)再有什么增長(zhǎng)呢？原因在于ASML的EUV光刻機(jī)，已經(jīng)發(fā)展到極限，難有下一代了，前路已經(jīng)被堵了。

目前ASML最大的營(yíng)收來(lái)源，其實(shí)是靠EUV光刻機(jī)，2023年為例，53臺(tái)EUV光刻機(jī)，每臺(tái)1.8億美元左右，這里就貢獻(xiàn)了近100億美元，三分之一啊。

現(xiàn)在主要銷售的EUV光刻機(jī)，是NA=0.33的光刻機(jī)，NA也稱之為數(shù)值孔徑，也稱之為L(zhǎng)ow-NA系統(tǒng)，因?yàn)?.33是低數(shù)值孔徑。

這種光刻機(jī)，能實(shí)現(xiàn)26nm的最小金屬間距和25-30nm尖端到尖端的近似互連空間間距，比較理想的，是實(shí)現(xiàn)3nm的芯片制造。

而NA=0.55的光刻機(jī)，數(shù)值孔徑變大了，稱之為Higt-Na系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)16nm的最小金屬間距，可實(shí)現(xiàn)2nm以下制程節(jié)點(diǎn)，甚至達(dá)到1nm。

不過(guò)這種NA=0.55的光刻機(jī)，成本高昂，達(dá)到了3.8億美元去了，相比上一代貴了一倍，同時(shí)ASML表示，目前產(chǎn)能還很差，一年也就只能生產(chǎn)不到10個(gè)出來(lái)，所以ASML并不是特別看好它，畢竟目前的0.33NA的光刻機(jī)，也能生產(chǎn)2nm芯片。

而制造3nm的芯片廠，才2家，大家原有的EUV光刻機(jī)不會(huì)淘汰掉，現(xiàn)在NA=0.55的光刻機(jī)，肯定銷量不會(huì)特別好，所以對(duì)2024年并不是很樂(lè)觀，覺(jué)得能夠維持住2023年的營(yíng)收，就不錯(cuò)了。

事實(shí)上，對(duì)ASML而言，更大的麻煩，還在后頭，因?yàn)楫?dāng)NA提升至0.55后，數(shù)值孔徑，可能就達(dá)到極限，無(wú)法再提升了。

至于其它提高EUV光刻機(jī)分辨率的方向，比如降低光源波長(zhǎng)，提高光刻工藝因子等，基本上都達(dá)到了極限，短時(shí)間之內(nèi)無(wú)法提升了。

所以在去年，主管技術(shù)的ASML的聯(lián)席CEO表示，接下來(lái)ASML的EUV光刻機(jī)，很難再有進(jìn)步了，NA=0.55的這種EUV光刻機(jī)，或許是最后一代，他于2024年也要退休了。

那么，一旦EUV光刻機(jī)，無(wú)法再更新?lián)Q代，ASML就陷入了“末日狂歡”之中了，也許眼前還能大賣，但未來(lái)呢？

當(dāng)然，也有人覺(jué)得，或許EUV光刻機(jī)還能夠前進(jìn)，只是目前還沒(méi)看到方向而已，但這種看不到方向，是企業(yè)的最大不確定性，沒(méi)有確定性就沒(méi)有未來(lái)，企業(yè)怎么辦呢？