前段時(shí)間，有媒體報(bào)道稱(chēng)，英特爾已經(jīng)拿到了ASML最新的2nm芯片EUV光刻機(jī)。

這種EUV光刻機(jī)型號(hào)叫做EXE:5200，和之前的EUV光刻機(jī)相比，最大變化是數(shù)值孔徑NA，從低數(shù)值0.33，變成了現(xiàn)在的0.55。

外界稱(chēng)這種新的EUV光刻機(jī)是High-NA系統(tǒng)，之前的稱(chēng)之為L(zhǎng)ow-NA系統(tǒng)。

ASML之前就表示過(guò)，當(dāng)NA提升到0.55之后， 基本無(wú)法現(xiàn)提升了，所以ASML認(rèn)為這種光刻機(jī)，可能是最后一代EUV光刻機(jī)，未來(lái)能不能提升，ASML自己也沒(méi)有信心了。

這種光刻機(jī)，能夠用于2nm及以下芯片的制造，因?yàn)镹A更高，分辨率就更高，工藝制程就能更低，據(jù)稱(chēng)最低可以實(shí)現(xiàn)到1nm以下芯片的制造。

這種NA=0.55的光刻機(jī)，重150噸（15萬(wàn)公斤），運(yùn)輸?shù)臅r(shí)候，需要250個(gè)集裝箱盒子，同時(shí)在拆開(kāi)運(yùn)到目的地之后，需要250個(gè)工人，安裝調(diào)試6個(gè)月（180天）之久，才能夠全部安裝完成。

目前臺(tái)積電、三星兩家已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了3nm工藝，按照規(guī)劃，這兩家晶圓廠，將會(huì)在2025年實(shí)現(xiàn)2nm，而intel則表示將在2024年實(shí)現(xiàn)2nm工藝。

所以不用懷疑，這種新一代的EUV光刻機(jī)，一定會(huì)再次遭到幾大晶圓廠的瘋搶?zhuān)驗(yàn)榇蠹叶枷朐?nm時(shí)候，占據(jù)先機(jī)，搶奪更多的產(chǎn)能，成為晶圓制造的老大。

所以近日，ASML表示稱(chēng)，自己已經(jīng)收到幾大客戶(hù)關(guān)于新EUV光刻機(jī)的訂單，數(shù)量大約是20個(gè)左右。而未來(lái)它要爭(zhēng)取能夠每年生產(chǎn)20個(gè)這樣的光刻系統(tǒng)。

而這種光刻機(jī)，一臺(tái)價(jià)格大約在3.8億美元，20臺(tái)就是76億美元，算下來(lái)就是540億元人民幣。而上一代EUV光刻機(jī)的價(jià)格只有1.8億美元左右。

和上一代光刻機(jī)相比，每臺(tái)高出2億美元，20臺(tái)就是40億美元，相當(dāng)于290億元，ASML真的是大賺特賺了，因?yàn)樾乱淮某杀荆隙ú粫?huì)提升100%吧。

在2017年的時(shí)候，美國(guó)就已經(jīng)明確禁止ASML將EUV光刻機(jī)賣(mài)到中國(guó)大陸來(lái)，哪怕是最古老的EUV光刻機(jī)，都不能賣(mài)給中國(guó)大陸，所以ASML技術(shù)再先進(jìn)，我們也得依賴(lài)自己，獨(dú)立搞出來(lái)才行……