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中國最先進的芯片設(shè)備:刻蝕機技術(shù),已達3nm,試驗2nm

2024-01-29 來源:科技專家
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關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體設(shè)備 芯片 光刻機

芯片的原材料是沙子,但把沙子變成芯片,要經(jīng)過幾千道工序,這中間還需要幾百種材料,幾百種設(shè)備,流程非常復(fù)雜,技術(shù)要求也非常高,供應(yīng)鏈復(fù)雜度堪稱全球第一。


復(fù)雜一點,其實也沒什么,但問題是美國聯(lián)手日本、荷蘭,在半導(dǎo)體設(shè)備上卡我們脖子,不出口一些先進的芯片設(shè)備給我們,搞得我們在一些關(guān)鍵設(shè)備上,全部要突破,要自研才行。


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所以這幾年,各種芯片設(shè)備傳出了不斷突破,替代國外產(chǎn)品的消息,那么問題來了,目前所有的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備中,哪一種設(shè)備支持的芯片工藝最先進?能不能達到全球頂尖水平?


事實上,國產(chǎn)的半導(dǎo)體設(shè)備中,還真有這么一種設(shè)備,達到了全球頂尖水平,連臺積電這樣的企業(yè),都從中國企業(yè)這里采購。


這種設(shè)備就是刻蝕機,和光刻機相比,名字相似,但干的事情卻截然不同,但又必不可少。


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光刻機是將芯片電路圖,通過光線投影到硅晶圓上。而刻蝕機,則是將硅晶圓上沒有投影的部分,蝕刻掉,只保留有投影的部分,形成電路圖。光刻機和刻蝕機,是相對應(yīng)的。


國內(nèi)能夠生產(chǎn)光刻機的廠商,其實并不少,但比較出名的主要是中微半導(dǎo)體,由中國刻蝕機第一人尹志堯博士創(chuàng)辦。


在創(chuàng)立中微半導(dǎo)體之前,尹志堯博士曾在英特爾、泛林、應(yīng)用材料等企業(yè)均工作過,個人在半導(dǎo)體行業(yè)擁有86項美國專利和200多項各國專利,被譽為“硅谷最有成就的華人之一”。


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他于2004年,帶著錢,以及一幫半導(dǎo)體領(lǐng)域的精英,回到上海創(chuàng)辦企業(yè),立志要要打破國外的壟斷。


創(chuàng)辦公司僅3年后的2007年,就推出了第一代國產(chǎn)刻蝕機,還采用了雙工作臺,比國外競品效率還要高。


美國泛林集團坐不住了,一方面是在2009年起訴中微的蝕刻機侵害它的權(quán)利,另外一方面則是想辦法偷學(xué)中微的技術(shù)。


后來中微沒慣著它,起訴泛林侵犯中微商業(yè)秘密,雙方你來我往,官司一打就是10多年,最后中微徹底勝訴,泛林侵犯中微商業(yè)秘密成立。


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而在打官司的過程中,中微的研發(fā)可一直在繼續(xù),刻蝕機也是不斷進步,從28nm到10nm,再到5nm、3nm。


目前中微的刻蝕機,早就實現(xiàn)了3nm工藝,并且被臺積電應(yīng)用于實際3nm芯片生產(chǎn)之中,中微還表示,目前正在和客戶一起試驗2nm工藝的刻蝕機,后續(xù)也會用于下一代晶圓制造之中。


不過,正如前面所言,芯片制造,需要幾百種設(shè)備,并且是遵循木桶理論,實際水平取決于最短的那一塊短板,所以其它國產(chǎn)設(shè)備也加油吧,如果和國產(chǎn)刻蝕機一樣,達到3nm,那還怕什么禁令?