據(jù)《中國(guó)日?qǐng)?bào)》等多家媒體報(bào)道，荷蘭最新芯片出口管制措施于今日（9月1日）生效。

對(duì)此，荷蘭芯片制造設(shè)備巨頭ASML（阿斯麥）方面回復(fù)稱，目前，ASML已向荷蘭政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)的出口許可證申請(qǐng)，荷蘭政府也已經(jīng)頒發(fā)了截至9月1日所需的許可證，允許ASML今年繼續(xù)發(fā)運(yùn)TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。（注：涉及16nm及以下制程工藝制造部分）

那么根據(jù)最新變化，明年1月起，ASML三款先進(jìn)浸沒(méi)式深紫外光刻機(jī) (DUV) 設(shè)備將不會(huì)對(duì)中國(guó)出口，這對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈將造成深遠(yuǎn)的影響。NXT: 2000i及后續(xù)光刻系統(tǒng)半間距為38nm、對(duì)準(zhǔn)精度為2.0nm以內(nèi)，對(duì)應(yīng)是16nm至7nm先進(jìn)制程芯片的制造（基于芯片類型不同，也可用在45nm及以下的成熟制程當(dāng)中），因此業(yè)界普遍認(rèn)為，此次受限制的是16nm及以下制程工藝制造。

各個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)和光刻技術(shù)的關(guān)系

ASML半導(dǎo)體光刻機(jī)產(chǎn)品參數(shù)

ASML的EUV光刻機(jī)歷程

2006年，ASML推出了第一臺(tái)EUV光刻機(jī)AlphaEUV演示工具，標(biāo)志著ASML正式進(jìn)入EUV光刻機(jī)領(lǐng)域。隨后，公司開(kāi)始大力推進(jìn)EUV技術(shù)的研發(fā)與生產(chǎn)，不斷改進(jìn)產(chǎn)品的性能與精度，發(fā)展了一系列的EUV光刻機(jī)產(chǎn)品。2014年，ASML推出了世界上第一臺(tái)EUV可用于芯片生產(chǎn)的光刻機(jī)，標(biāo)志著EUV技術(shù)已經(jīng)開(kāi)始商業(yè)化。

    到了2017年，ASML推出了支持7納米和5納米節(jié)點(diǎn)的EUV量產(chǎn)型號(hào)TWINSCANNXE:3400B，它的分辨率遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)的ArFi光刻機(jī)，并能夠在制造高密度存儲(chǔ)芯片時(shí)發(fā)揮巨大的作用。截止至2022年底，ASML實(shí)際賣出EUV光刻機(jī)僅182臺(tái)，在這個(gè)數(shù)字下，EUV光刻機(jī)的市場(chǎng)份額仍然相當(dāng)小。

ASML的EUV光刻機(jī)客戶情況

ASML的EUV光刻機(jī)客戶主要分為兩類，一類是制造芯片的企業(yè)，如英特爾、三星、臺(tái)積電，另一類是制造DRAM內(nèi)存的企業(yè)，如美光、SK海力士、三星。這些客戶均是全球知名的科技公司，在各自領(lǐng)域擁有著廣泛的產(chǎn)品線和市場(chǎng)份額，并且對(duì)高精度、高質(zhì)量的光刻機(jī)需求較大。

值得注意的是，ASML僅有5個(gè)EUV光刻機(jī)客戶，這也正是EUV光刻機(jī)市場(chǎng)較小的主要原因之一。

EUV光刻機(jī)市場(chǎng)需求現(xiàn)狀

EUV光刻機(jī)是當(dāng)今半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中最重要和最昂貴的設(shè)備之一。EUV光刻機(jī)的生產(chǎn)成本極高，需要巨額的研發(fā)資金和投入，而且其制造流程復(fù)雜，技術(shù)難度也非常高。同時(shí)，EUV光刻機(jī)市場(chǎng)的需求量并不像想象中那么大，目前ASML是唯一的EUV光刻機(jī)生產(chǎn)商，其它光刻機(jī)企業(yè)不研發(fā)EUV光刻機(jī)的原因，是因?yàn)闀?huì)與ASML打價(jià)格戰(zhàn)，最后雙方都會(huì)虧損。因此，目前EUV光刻機(jī)市場(chǎng)份額比較小，但是其商業(yè)價(jià)值以及在芯片生產(chǎn)過(guò)程中的地位不言而喻。

中國(guó)研發(fā)EUV光刻機(jī)

中國(guó)正大力發(fā)展芯片制造產(chǎn)業(yè)，在芯片高端制造領(lǐng)域持續(xù)加強(qiáng)技術(shù)攻關(guān)。EUV光刻機(jī)作為半導(dǎo)體領(lǐng)域的重要制造設(shè)備之一，已經(jīng)成為中國(guó)芯片制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

目前在全球范圍內(nèi)，除ASML之外，中國(guó)是唯一一家研發(fā)EUV光刻機(jī)的企業(yè)。由于EUV光刻機(jī)的研發(fā)周期極長(zhǎng)，技術(shù)難度極大，中國(guó)需要長(zhǎng)時(shí)間的持續(xù)投入。目前，中國(guó)還沒(méi)有成熟的EUV光刻機(jī)技術(shù)，但中國(guó)政府正加大對(duì)該領(lǐng)域的投資和扶植，而首次購(gòu)買EUV光刻機(jī)的中國(guó)企業(yè)——中芯國(guó)際也將成為中國(guó)EUV光刻機(jī)在市場(chǎng)上探索的重要推手。

總結(jié)

EUV光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的重要裝備，目前市場(chǎng)份額相對(duì)較小，但商業(yè)價(jià)值和在芯片生產(chǎn)中的地位不容小覷。ASML公司在EUV光刻機(jī)領(lǐng)域中占據(jù)著重要的市場(chǎng)地位，客戶主要集中在制造芯片和DRAM內(nèi)存領(lǐng)域之內(nèi)。除ASML之外，目前全球沒(méi)有其它光刻機(jī)企業(yè)研發(fā)EUV光刻機(jī)，這也是EUV光刻機(jī)市場(chǎng)需求量相對(duì)較小的主要原因之一。中國(guó)正積極尋求獨(dú)立研發(fā)EUV光刻機(jī)，計(jì)劃加快在半導(dǎo)體領(lǐng)域的技術(shù)攻關(guān)和產(chǎn)業(yè)升級(jí)。