眾所周知，前幾天日本的半導(dǎo)體禁令，正式出爐了，7月23日起開始實施。

一共是23種半導(dǎo)體設(shè)備被列入了限制出口清單，當(dāng)然并不是說不能出口了，而是被列入清單的這些設(shè)備，除了42個友好國家和地區(qū)外。不管出口到哪一個國家和地區(qū)，都需要日本政府的許可證。

日本表示，這不是故意針對哪一個國家，但明眼人都清楚，日本就是聽美國的話，針對的就是中國。

并且，讓人氣憤的是，日本人在搞針對這事上，太認真了，比美國、荷蘭的禁令還更詳細。

美國只是提出一個目標(biāo)，14nm以下邏輯制程，18nm以下DRAM內(nèi)存，128層以上NAND閃存的設(shè)備禁止出口給中國。但是很多設(shè)備其實是不分14nm，還是28nm的，那么這些設(shè)備，美國也是睜一只眼，閉一只眼，只是關(guān)鍵設(shè)備不行。

而荷蘭的ASML，也只說目前在售的浸潤式光刻機中，NXT:2000i及之后的浸沒式光刻系統(tǒng)將會受到出口限制，但其中像NXT:1980Di 仍將可以出口，而這臺光刻機，用的好，可以實現(xiàn)7nm工藝的。

但日本的禁令卻不同了，一字一句，摳的非常細，比美國、荷蘭的禁令還要詳細，并且針對性極強。

就拿光刻機來說，日本的限制里面，寫著“光源波長為193納米以上、且光源波長乘以0.35再除以數(shù)值孔徑得到的數(shù)值為45及以下”的光刻機。

這句話的意思是什么呢？意思就是浸潤式光刻機是被禁的，因為浸潤式光刻機，雖然使用的是193nm的光源，但CD小于45nm，那么就屬于管制范圍。浸潤式光刻機，是用于45-7nm工藝的，日本一把全禁了，管你呢。

類似的還是熱處理設(shè)備，干法清洗，濕法清洗設(shè)備等，如果大家認真去看看日本這23項設(shè)備的詳細描述清單，會發(fā)現(xiàn)日本在禁令這一塊，真的太細了。

并且非常有針對性，各種設(shè)備，只要有可能可以用到先進制程的，就禁了再說，至于他有可能也會用在成熟工藝上，那不管了，只要有關(guān)先進制程，就先把你卡死再說。

這或許就是網(wǎng)友們“贊揚”的“日本工匠”精神吧，每個細節(jié)都摳死你，絕不放過任何一個有可能會被疏忽掉的地方。