美國限制ASML對(duì)中國出售先進(jìn)光刻機(jī)，甚至還限制對(duì)中國出售14納米以下的光刻機(jī)，然而近日ASML總裁卻說“中國自研光刻機(jī)是破壞全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈”，如此言論或許是看到了中國的光刻機(jī)已取得重大突破，擔(dān)憂它的市場被侵蝕。

中國一直都在努力推進(jìn)光刻機(jī)，此前數(shù)年一直止步于90納米光刻機(jī)，這讓ASML大舉從中國市場賺取了豐厚的利潤，2021年和2022年Q1中國市場為它貢獻(xiàn)了三分之一的收入，2022年下半年在美國的壓力下，ASML從中國市場獲得的收入逐漸下降，但是2022年中國市場仍然為它貢獻(xiàn)了29億歐元的收入，占其營收的比例達(dá)到14%。

ASML從中國市場獲得的這筆收入還是在限制對(duì)中國出售先進(jìn)的EUV光刻機(jī)以及14納米以下DUV光刻機(jī)取得的，中國購買的DUV光刻機(jī)占ASML在2022年銷售的DUV光刻機(jī)數(shù)量達(dá)到25%，中國市場已成為ASML的DUV光刻機(jī)最大市場了。

ASML曾希望未來3年時(shí)間將DUV光刻機(jī)的產(chǎn)能擴(kuò)大到600臺(tái)，自然DUV光刻機(jī)的主要銷售對(duì)象就是中國市場，然而受美國的阻撓，ASML如今可以對(duì)中國銷售的最先進(jìn)DUV光刻機(jī)為1980Di，這是一款38納米光刻機(jī)，技術(shù)已經(jīng)相當(dāng)落后，中國力推的28納米用這款光刻機(jī)需要多重曝光技術(shù)，生產(chǎn)成本較高，因此吸引力其實(shí)不大。

更為重要的是中國一直在力推28納米光刻機(jī)的量產(chǎn)，兩年前中國就已對(duì)28納米光刻機(jī)進(jìn)行驗(yàn)證，據(jù)悉當(dāng)時(shí)的28納米光刻機(jī)在工藝穩(wěn)定性方面還稍有不足，但是哈爾濱工業(yè)大學(xué)研發(fā)的“高速超精密激光干涉儀”卻可以解決這個(gè)問題，確保光刻機(jī)整合后的工藝穩(wěn)定性，推動(dòng)28納米光刻機(jī)的量產(chǎn)。

ASML高管曾表示即使給中國圖紙，中國也無法量產(chǎn)先進(jìn)的光刻機(jī)，然而隨著中國先進(jìn)光刻機(jī)的推進(jìn)，他迅速改口，認(rèn)為中國可以很快研發(fā)出國產(chǎn)先進(jìn)光刻機(jī)；兩年前還有國內(nèi)專家表示只要3年時(shí)間中國就能量產(chǎn)28納米光刻機(jī)，算算時(shí)間，如今國產(chǎn)28納米光刻機(jī)離量產(chǎn)的時(shí)間越來越近了。

此時(shí)ASML總裁卻說出“中國自研光刻機(jī)是破壞全球芯片產(chǎn)業(yè)鏈”，恰恰印證了中國的28納米光刻機(jī)已進(jìn)入量產(chǎn)階段，甚至可能已量產(chǎn)成功，這才導(dǎo)致他說出如此的話，反映出他相當(dāng)擔(dān)憂中國自研的光刻機(jī)替代ASML的光刻機(jī)。

其實(shí)更讓ASML擔(dān)憂的是28納米光刻機(jī)屬于浸潤式技術(shù)的光刻機(jī)，而從28納米到7納米的DUV光刻機(jī)都采用了浸潤式技術(shù)，中國量產(chǎn)28納米光刻機(jī)就代表著解決了浸潤式光刻機(jī)這項(xiàng)重要技術(shù)，其后研發(fā)14納米、7納米DUV光刻機(jī)的難度將大大減小，這更是讓ASML害怕。

2005年ASML依靠浸潤式光刻機(jī)技術(shù)擊敗日本的干式光刻機(jī)，由此奠定了ASML在光刻機(jī)市場的王者地位，而浸潤式光刻機(jī)技術(shù)其實(shí)是臺(tái)積電的技術(shù)高管林本堅(jiān)發(fā)明的，近幾年來中國大陸吸引了中國臺(tái)灣的諸多芯片技術(shù)人才，累積吸引的中國臺(tái)灣芯片技術(shù)人才數(shù)量高達(dá)3000人，隨著這些人才的加入，中國研發(fā)浸潤式光刻機(jī)取得突破在情理之中。

ASML當(dāng)年獲得中國臺(tái)灣的浸潤式光刻機(jī)技術(shù)之前，在日本的尼康和佳能打壓之下連生存都成為問題，獲得了浸潤式光刻機(jī)技術(shù)之后才成為光刻機(jī)巨頭，它當(dāng)然擔(dān)憂中國取得浸潤式光刻機(jī)技術(shù)之后，再度淪落回當(dāng)年那樣的窘境，因此慌亂說出如此話語也就得以理解了。