國產28納米光刻機一直備受關注，因為這代表著浸潤式先進光刻機能否量產的問題，近日有國產手機即將發(fā)布的新款手機了14納米芯片，或許就代表著浸潤式光刻機真正量產并已投入使用。

一、國產14納米芯片的意義

由于眾所周知的原因，國內芯片制造企業(yè)采用ASML的14納米光刻機以及進口光刻膠等材料是不能為該企業(yè)代工生產芯片的，如今它的14納米芯片被用在手機上，就意味著至少28納米光刻機以及光刻膠等材料都已經(jīng)實現(xiàn)了國產化。

國內早就盛傳國產28納米光刻機已通過了技術驗證，這么長時間過去，沒有新的消息，或許就是在推進量產，該國產14納米芯片的推出應該就代表著該款國產28納米光刻機已投入生產。

28納米光刻機的量產，對于國產先進光刻機具有重要的指標意義，因為在28納米及以下的光刻機都需要用到浸潤式光刻技術，有了浸潤式光刻技術，再量產14納米浸潤式光刻機就不會有太大問題，28納米光刻機、14納米光刻機都是采用相同的光源，技術原理大都相通。

28納米光刻機的量產代表的另一重意義則是國產光刻機產業(yè)鏈已經(jīng)完善，由于眾所周知的原因中國如今不僅無法進口14納米以下的光刻機，連先進光刻機的相關元件都無法進口，這迫使中國自行完善光刻機產業(yè)鏈，這也是國產光刻機需要如此長時間才能量產的原因。

此前國產芯片八大制造環(huán)節(jié)，諸多環(huán)節(jié)都已突破到14納米，刻蝕機、封裝技術更是已進展到5納米，如今先進光刻機的量產，整條芯片制造產業(yè)鏈終于打通，中國的芯片制造將不再受制于人。

二、國產7納米有了希望

量產28納米光刻機，對于國產當前需求迫切的7納米工藝來說，可以打開了全新的局面。7納米工藝并非必須有EUV光刻機才能量產，臺積電最早的7納米工藝就是以14納米浸潤式光刻機實現(xiàn)的，只不過14納米光刻機量產的7納米工藝性能不夠強、成本高了一些罷了。

國內的光刻機突破到28納米工藝，解決了關鍵的浸潤式技術，那么14納米光刻機已為時不遠，這與此前相關專家強調只要兩三年時間中國就能生產先進的14納米光刻機相對應，可能當時這些專家就已得到相關的消息，才如此表態(tài)。

光刻機巨頭ASML也曾表示即使將光刻機圖紙交給中國，中國也無法生產先進的14納米光刻機，但是后來卻很快改口，認為中國能遲早生產出先進光刻機，作為行業(yè)巨頭有更暢通的信息獲取方式，它應該也是從一些信息得出中國在先進光刻機方面取得了技術進展。

14納米已能滿足國內芯片七成的需求，7納米則能滿足國內九成的芯片需求，國產先進光刻機的快速進展，顯然出乎美國的意料。正如美國富豪比爾蓋茨所言，美國限制不了中國發(fā)展先進芯片技術，如今這一切都印證了比爾蓋茨的預言。

這幾年中國芯片的進展相當迅速，芯片日產能突破10億顆，芯片自給率提升至三成以上，這是在現(xiàn)有主要以28納米工藝為主的情況下取得了，更先進工藝的進展，將推動國產芯片的自給率進一步提升，如此預計2025年實現(xiàn)七成芯片自給率的目標已有了實現(xiàn)的希望。

在現(xiàn)有技術的基礎上，中國對海外芯片的需求就在快速下滑，2022年中國芯片進口量減少了15%，今年前兩個月中國的芯片進口量更是減少了26.5%，國產芯片替代加快已給美國芯片造成了巨大打擊，美國芯片或是出現(xiàn)虧損，或是陷入衰退，接下來它們必然將承受中國芯片更大的打擊。