中國芯在EDA、設計、封測上均實現(xiàn)了3nm,只等光刻機突破了
近日,國產(chǎn)EDA廠商概倫電子表示,公司研發(fā)的關鍵EDA產(chǎn)品,已經(jīng)支持7nm/5nm/3nm等先進工藝節(jié)點。
這意味著國內(nèi)目前已經(jīng)有兩家EDA廠商,其EDA產(chǎn)品,支持到了3nm這種最先進的工藝,另外一家是華大九天。
事實上,從現(xiàn)在的情況來看,國產(chǎn)芯在EDA、設計、封測這三個環(huán)節(jié)均實現(xiàn)了3nm,達到了全球領先水平,現(xiàn)在只有制造卡在14nm了,而制造則主要卡在光刻機上。
先說EDA,前面已經(jīng)提到過,華大九天、概倫電子的EDA產(chǎn)品,已經(jīng)實現(xiàn)了3nm,不過這里大家要注意的是,并不是所有的流程環(huán)節(jié)均實現(xiàn)了3nm,只是部分產(chǎn)品達到了這個工藝。
但是,只要有一個部分達到了3nm工藝,并且被客戶使用了,那么后續(xù)其它環(huán)節(jié)達到3nm也就容易了。
再說說設計這一塊,這一塊應該是國內(nèi)芯片廠商的強項了,之前倪光南院士也表示,芯片設計能力,我們和世界水平是基本持平的。
目前國內(nèi)能夠設計3nm芯片的廠商,并不少,華為肯定是可以的,這一點不用懷疑,麒麟9000系列是一顆5nm的芯片,而芯片設計企業(yè)一般至少要提前2年就設計芯片,意思著在麒麟9000芯片推出時,華為就已經(jīng)開始著手設計3nm芯片了。
另外去年三星3nm芯片量產(chǎn)時,首批客戶就是中國大陸的客戶,只是是一些礦機客戶,但也說明3nm的設計水平,國內(nèi)早就達到了。
最后再說一說封測,這一塊是中國大陸半導體產(chǎn)業(yè)的強項之一,目前國內(nèi)有4大封測企業(yè)排名全球Top10,分別是長電科技、天水華天、通富微電,智路封測。
長電科技、通富微電、天水華天早就表示,自己已經(jīng)具備了3nm芯片的封測能力,其中像長電科技、通富微電甚至表示,擁有4nm Chiplet的封裝能力,完全達到了全球領先水平。
可見,目前國產(chǎn)芯片的短板還是制造,畢竟中國大陸最先進的芯片工藝還是在14nm,與EDA、設計、封測的3nm相比,中間還隔了10nm、7nm、5nm、3nm這么4代,這4代按照正常發(fā)展,也得5-10年才行,現(xiàn)在還加上禁令,要追上的時間就未知了,也許10年都不定一達到。
而制造之所以這么落后,關鍵又是光刻機,國產(chǎn)的分辨率僅90nm,而ASML的EUV,以及先進的浸潤式DUV光刻機也不能出售給中國了,所以國產(chǎn)光刻機真的要突破,否則制造就一直就短板,而這個短板,將成為中國芯最關鍵的制約因素。
