而據(jù)媒體的報道稱，日本政府將在今年春季實施出口管制，以阻止先進半導體技術(shù)被用于軍事用途，雖然沒說針對中國，但誰都看得出來，就是針對中國。

事實上，美國之所以聯(lián)合上日本，最擔心的事情就是日本賣光刻機給中國，那中國的芯片工藝，可以達到5nm。

為何這么說？因為日本尼康的光刻機，其光刻分辨率目前確實能夠達到5nm，也是ASML之后，全球第二家擁有浸潤式光刻機的廠商。

目前光刻機已經(jīng)發(fā)展到第五代了，也就是EUV光刻機，而在EUV之前，還有g(shù)-line、i-line、Krf、ArF。

至于g-line、i-line比較落后了，用于um級芯片的制造，很多廠商都有，就不多說了。

而像KrF、ArF也有一個說法，就是DUV光刻機，這里又分為干式光刻機、濕式光刻機（也稱浸潤式光刻機）。

其中浸潤式光刻機，是采用193nm波長的光源，但是光刻時的介質(zhì)為水，所以193nm光源，等效于143nm，所以這種光刻機，是能夠制造7nm芯片的，甚至極限使用下，能達到5nm。目前除了ASML外，尼康也能夠制造。

與ASML不同，尼康的光刻機，是采用的日本本土的技術(shù)，沒有合作美國的技術(shù)或設(shè)備，所以不受美國長臂管轄，如果日本愿意，是可以出售這樣的光刻機給中國的。

另外佳能在研發(fā)的NIL光刻機（納米壓印技術(shù)），據(jù)說也有望達到5nm精度，雖然還沒有研發(fā)出來，但路線已確定，最近兩到三年有望實現(xiàn)。

所以美國很擔心這件事情的發(fā)生，一旦中國買到了這些光刻機，那就卡不住脖子了，所以就找上了日本，希望日本政府出面，禁售這些光刻機。

對日本而言，美國是大哥啊，大哥的話必須得聽，所以自然就聽話，尼康、佳能的先進光刻機，自然就不能賣給中國了。

但對于日本廠商而言，光刻機如果缺少了中國市場的支持，很難重新崛起，所以這個決定不好下，未來變數(shù)還很大。