大家都知道光刻機(jī)是芯片制造過(guò)程中，最重要的設(shè)備之一。但大家不清楚的是，光刻機(jī)也分前道光刻機(jī)，后道光刻機(jī)兩種。

前道光刻機(jī)，主要是指將芯片電路圖，光刻到硅晶圓上的光刻機(jī)，也就是芯片制造的前道工序號(hào)需要的光刻機(jī)，也稱之為前道光刻機(jī)，其中又分EUV光刻機(jī)、DUV光刻機(jī)，UV（i-line）光刻機(jī)。

而后道光刻機(jī)，同是用于芯片制造的后道工序，比如芯片封裝等，另外還有光刻膠制造也需要后道光刻機(jī)等。

相對(duì)而言，前道光刻機(jī)更難，更為重要。同時(shí)對(duì)精度要求也越高，所以前道光刻機(jī)又分EUV、DUV、UV光刻機(jī)。而DUV光刻機(jī)按照精度，又分為ArFi光刻機(jī)，用于45-7nm；ArF Dry用于65nm，KrF用于180nm等等。

目前全球能夠制造光刻機(jī)的廠商，真不多，可能也就4家，分別是ASML、日本佳能、日本尼康，還有上海微電子。

那么這4家各自在市場(chǎng)表現(xiàn)如何？近日，有機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)了2021年全球前道光刻機(jī)的銷(xiāo)售情況，一共是478臺(tái)（注：數(shù)據(jù)真假未知，但以機(jī)構(gòu)的知名數(shù)，估計(jì)不會(huì)有假）。

如上圖所示，去年全球一共售出478臺(tái)前道光刻機(jī)，其中ASML拿下309臺(tái)，占比為65%，日本廠商拿下169臺(tái)，占比為35%。而中國(guó)廠商的份額為0。

再看看5種分類(lèi)，可以看到EUV光刻機(jī)是ASML獨(dú)占100%，而DUV中，精度更高的ArFi、ArF Dry均是ASML說(shuō)了算，占比分別96%、88%。

日本廠商則在低端的KrF、UV(i-line）上有一定優(yōu)勢(shì)，特別是最低端的UV光刻機(jī)上，占了大頭。

可見(jiàn)，整個(gè)前道光刻機(jī)市場(chǎng)，還是ASML說(shuō)了算，日本廠商，拿走的是ASML看不上的低端市場(chǎng)，而國(guó)產(chǎn)連低端市場(chǎng)都搶不到。

為何國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，出貨量為0？首先是上海微電子目前最先進(jìn)的僅為90nm，也就是KrF、UV階段，處于低端，這里競(jìng)爭(zhēng)大，有4家廠商在競(jìng)爭(zhēng)，ASML、佳能、尼康都有。

而更重要的是，芯片的前道工序非常重要，并且是幾百種設(shè)備相互配合，而這些生產(chǎn)設(shè)備以國(guó)外的產(chǎn)品為主，所以國(guó)外的光刻機(jī)能夠相互配合兼容，這是大家多年來(lái)合作的結(jié)果。

而國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的也許能用，精度也達(dá)到了，但晶圓廠們一般情況下可不會(huì)冒險(xiǎn)，在有國(guó)外的、能兼容匹配的國(guó)外設(shè)備可買(mǎi)的情況下，就不會(huì)買(mǎi)國(guó)產(chǎn)的，一旦出了問(wèn)題，就損失慘重。

可見(jiàn)，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)，不僅要解決本身的產(chǎn)品性能問(wèn)題，還要想辦法融入整個(gè)供應(yīng)鏈中，才能夠真正崛起。