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三星羨慕嫉妒恨,臺(tái)積電3nm工藝,良率高達(dá)80%

2022-08-26 來源:互聯(lián)網(wǎng)亂侃秀
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關(guān)鍵詞: 高通 集成電路 半導(dǎo)體

眾所周知,自從進(jìn)入5nm之后,大家就都吐槽三星工藝不行,良率低、功耗大,發(fā)熱大。并且還拿出各種事例來證明。


比如5nm的驍龍888,有火龍之稱。然后4nm的高通驍龍8Gen1,一樣是火龍,同時(shí)因?yàn)榱悸侍停桓咄ㄏ訔?,最后高通將訂單轉(zhuǎn)給臺(tái)積電,生產(chǎn)驍龍8+了。


而臺(tái)積電生產(chǎn)的驍龍8+,也是4nm工藝,但明顯比驍龍8Gen1性能強(qiáng),功耗低,發(fā)熱小。



按照媒體的爆料,三星4nm工藝的良率只有35%左右。后來更是爆料稱,在3nm時(shí),三星雖然采用了更先進(jìn)的GAAFET晶體管技術(shù),但良率卻更低了,只有10-20%,糟糕的令人發(fā)指。


所以客戶們都不愿意按晶圓片數(shù)來計(jì)算訂單了,只愿意按照成口芯片數(shù)來計(jì)算,因?yàn)榱悸实?,成本太高,IC廠商們都抗不住。



那么三星的良率這么糟糕,臺(tái)積電的又怎么樣呢?近日是有媒體披露了一頁(yè)臺(tái)積電的PPT內(nèi)容,上面顯示,N3E 工藝進(jìn)展非常好,平均達(dá)到了80%以上。


如果屬實(shí),那么就意味著臺(tái)積電的良率是三星的4倍,同樣條件下,三星生產(chǎn)一顆芯片,臺(tái)積電就能生產(chǎn)4顆,這差距就太大了,不知道三星看了會(huì)不會(huì)羨慕嫉妒恨?



三星一直想在在代工領(lǐng)域超過臺(tái)積電,特別是3nm時(shí),更是憋了一口氣,率先量產(chǎn),更是采用了GAAFET晶體管技術(shù),就是想先領(lǐng)先臺(tái)積電一步,然后再慢慢把優(yōu)勢(shì)擴(kuò)大,最終超過臺(tái)積電。


但從現(xiàn)在這個(gè)良率來看,三星的路還很長(zhǎng),要努力的地方還有很多,畢竟良率差這么多,客戶選擇誰(shuí),這不是明擺著的么?


按照臺(tái)積電的資料,3nm工藝,功耗降低 34%,性能提升18%,晶體管密度也可以提升至少18%,明年全面量產(chǎn),就看到時(shí)候與三星相比,究竟誰(shuí)更厲害了。