2022年全球刻蝕設(shè)備市場規(guī)模及競爭格局分析（圖）
2022-08-15
來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院
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關(guān)鍵詞： 半導體設(shè)備
中商情報網(wǎng)訊：刻蝕制程位于薄膜沉積和光刻之后，目的是利用化學反應(yīng)、物理反應(yīng)、光學反應(yīng)等方式將晶圓表面附著的不必要的物質(zhì)去除，過程反復多遍，最終得到構(gòu)造復雜的集成電路。按照刻蝕的工藝不同可以分為干法刻蝕和濕法刻蝕。
市場規(guī)模
全球刻蝕設(shè)備領(lǐng)域中，硅基刻蝕主要被 Lam 和 AMAT 壟斷，介質(zhì)刻蝕主要被TEL和Lam壟斷。2020年全球刻蝕設(shè)備市場規(guī)模約為136億美元，同比增長23.64%。預(yù)計2022年將進一步增長至184億美元。
數(shù)據(jù)來源：Gartner、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
競爭格局
全球刻蝕設(shè)備領(lǐng)域中，硅基刻蝕主要被 Lam 和 AMAT 壟斷，介質(zhì)刻蝕主要被TEL和Lam壟斷。Lam獨占47%的市場份額，TEL 和 AMAT 分別占據(jù) 27%和 17%的市場份額。
數(shù)據(jù)來源：Gartner、中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
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