中國科學(xué)院上海高等研究院日前發(fā)布博士后研究人員招聘啟事，應(yīng)聘人員入站后將參與Sub-7nm先進集成電路器件同步輻射表征及應(yīng)用研究等課題。

公開信息顯示，“面向Sub-7nm先進工藝節(jié)點集成電路核心器件的同步輻射表征技術(shù)及應(yīng)用”為國家重點研發(fā)計劃“大科學(xué)裝置前沿研究”2021年度立項項目，由上海高研院牽頭，項目實施周期5年，這則招聘啟事或顯示研發(fā)項目已獲實質(zhì)性啟動。

另有南開大學(xué)信息顯示，該校講席教授羅鋒也已承擔相應(yīng)課題，開展極紫外光刻技術(shù)光刻膠合成制造與刻蝕評估，公司合作方包括了中芯旗下北方集成電路創(chuàng)新中心和北京超弦存儲器研究院。