- EUV光刻機3大核心：2大來自德國，1大來自美國，ASML負(fù)責(zé)組裝
- 美國限制ASML出售光刻機，中國加快國產(chǎn)光刻機替代
- 國產(chǎn)光刻機的艱難往事：給全套圖紙，中國人也造不出光刻機？
- 我國多久能造出高端EUV光刻機？答案或許出乎意料
- 石墨烯芯片可繞過光刻機是不是“謊言”？
- 尼康造出7nm光刻機，佳能押注5nm NIL光刻機，ASML急不急？
- ASML：對華新限制將“包括但不限于先進(jìn)光刻機”
- 用于量子芯片的光刻機、刻蝕機，EDA，我們都研發(fā)成功了
- 10臺EUV光刻機，456億，外媒：臺積電頂不住了
- 光刻機受制于人：有技術(shù)也生產(chǎn)不出芯片，華為EUV掃描儀專利有用？
