HBM3e 今年將成主流,產(chǎn)能擠占將導致下半年 DRAM 供不應求
2024-05-21
來源: IT之家
1768
業(yè)內(nèi)消息稱三星、SK 海力士和美光都在積極投資高帶寬內(nèi)存(HBM),而由于產(chǎn)能擠占效應,下半年 DRAM 產(chǎn)品可能會面臨短缺。
集邦咨詢在報告中認為,三大 DRAM 供應商正在增加先進工藝的晶圓投入。隨著存儲器合同價格的上漲,各公司都加大了資本投資力度,今年下半年將重點擴大產(chǎn)能,預計到今年年底,1α nm 及以上工藝的晶圓投入量將占 DRAM 晶圓總投入量的約 40%。
由于 HBM 的盈利能力和不斷增長的需求,廠商優(yōu)先考慮生產(chǎn) HBM,HBM3e 將成為今年的市場主流,出貨量將集中在下半年。
由于 HBM3e 的出貨量預計將集中在下半年,恰逢內(nèi)存需求旺季,市場對 DDR5 和 LPDDR5 (X) 的需求預計也將增加。
由于分配給 HBM 生產(chǎn)的晶圓投入比例較高,先進工藝的產(chǎn)出將受到限制。因此,下半年的產(chǎn)能分配將是決定供應能否滿足需求的關鍵。
簡要匯總下廠商情況如下:三星預計現(xiàn)有設施將于 2024 年底全部滿負荷運轉,新的 P4L 工廠預計將于 2025 年竣工,而 15 號生產(chǎn)線工廠將從 1Y 納米過渡到 1beta 納米及以上的工藝。
SK 海力士計劃明年擴大 M16 工廠的產(chǎn)能,而 M15X 工廠也計劃于 2025 年竣工,并于明年年底開始量產(chǎn)。
各主要制造商都將投資 HBM4 的開發(fā),在產(chǎn)能規(guī)劃中優(yōu)先考慮 HBM。因此,由于產(chǎn)能擁擠效應,DRAM 供應可能會出現(xiàn)短缺。
