中商情報網(wǎng)訊：靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高性能濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積工藝，是制備半導體晶圓、顯示面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。

高性能濺射靶材市場規(guī)模增長穩(wěn)定

我國高性能濺射靶材行業(yè)在國家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應用領域需求的支撐下，行業(yè)技術不斷突破，產(chǎn)品性能不斷提升，帶動高性能濺射靶材市場規(guī)模不斷擴大。數(shù)據(jù)顯示，中國高性能濺射靶材市場規(guī)模由2016年的98.9億元增長至2020年的201.5億元，年均復合增長率為19.47%。中商產(chǎn)業(yè)研究院預測，2022年中國高性能濺射靶材市場規(guī)模將達288.1億元。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理

應用市場分析

濺射靶材是平面顯示、太陽能電池、半導體等領域生產(chǎn)所需的關鍵材料，具有較高附加值和良好的市場發(fā)展前景。在下游主要應用市場中，平面顯示領域占比最高，達到30%。其次是半導體集成電路，占比達20%；太陽能電池領域占比達18%。

數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理